等离子增强化学气相沉积PECVD（有机） 分类编码： 120499 英文名称： PECVD (contaminated substrate) 规格型号： HAASRODE-P200A 所属单位： 浙江省3D微纳加工和表征研究重点实验室 仪器原值： 111.00(万元) 启用日期： 2018/8/23 生产厂商： 江苏鲁汶仪器有限公司 产地国别： 中国 服务领域： 材料,生物医学,电子与测量 技术指标： 1）配置5%SiH4/95%N2，N2O，NH3，N2，CF4，O2等6路工艺气体； 2）1KW的13.56MHz射频电源；反应压力从500mTorr～3Torr可控； 3）热台衬底加热温度从100度到350度可调； 4）在8英寸（200mm直径) 衬底内，沉积氮化硅和氧化硅薄膜片内均匀性<3%, 每次沉积之间的均匀性<3%；薄膜633nm折射率从1.465~3.00可调，薄膜应力从压应力到张应力可调； -->样品要求： 样品尺寸从8英寸（200mm直径）圆片到小尺寸碎片，厚度小于3mm的平面样品；接受衬底材质如硅片，玻璃，化合物半导体衬底，耐高温的塑料，不锈钢等材质；衬底需先进行清洗，去除表面颗粒和油污等方可送入反应腔镀膜；不可使用有挥发性或者未干燥样品；特殊样品请咨询设备管理员. 功能及应用领域： 可用于沉积氧化硅，氮化硅，氮氧化硅和非晶硅等薄膜材料； 可提供不同折射率，光学带隙，吸收系数和薄膜应力的工艺参数组合； -->服务内容：薄膜沉积，样品制备，用户培训，技术咨询（未培训用户可代为制样，培训合格并授权用户可自行操作） 仪器联系人： 李西军 联系人电话： 0571-88119591 邮政编码： 310024 电子邮件： lixijun@westlake.edu.cn 参考收费标准： 校内400元/小时； 校外800元/小时