氧等离子去胶机 分类编码： 120302 英文名称： Plasma Cleaner 规格型号： PC-300 所属单位： 浙江省3D微纳加工和表征研究重点实验室 仪器原值： 50.00(万元) 启用日期： 2018/8/23 生产厂商： SAMCO 产地国别： 日本 服务领域： 材料,生物医学,电子与测量 技术指标： 清洗模式：RIE模式和PE模式可切换； 衬底最大尺寸：直径或者边长200mm； 射频功率：0-300W，自动匹配，反射功率<5%(最大功率)； 1路MFC控制的O2气体，最大流量50sccm； 胶速度和均匀性：RIE模式时（1层电极板），去胶速度>100nm/min，均匀性<±15%； 工艺可由菜单控制也可由手动控制，可调节的工艺参数包括：气体流量，等离子功率； 最多可编辑保存菜单：100个； 功能及应用领域： 该设备其工作原理是将样品置于真空反应系统中，通入少量氧气，射频电源（13.56MHz）通过平行板电容放电的方式将O2电离，电离后的阳离子和自由基与样品表面的有机物，如光刻胶、有机残留物等发生反应，并将其去除。 仪器联系人： 李西军 联系人电话： 0571-88119591 邮政编码： 310024 电子邮件： lixijun@westlake.edu.cn 参考收费标准： 校内100元/小时； 校外200元/小时