高分辨SEM电子束曝光系统 分类编码： 010102 英文名称： SEM based electron beam lithography system 规格型号： 高分辨电子显微镜(1kV, 1.4nm分辨);纳米图形生成器 分　　类： 分析仪器 所属单位： 浙江大学物理学系 仪器原值： 215.02(万元) 启用日期： 2017/12/19 生产厂商： FEI香港有限公司 产地国别： 捷克 技术指标： 1. 电子光学系统 分辨率：二次电子（SE）像 ≤ 1.0 nm @ 15k V；1.4 nm @ 1kV; 加速电压： 0.2kV－30KV。放大倍数误差 ：≤3 % 电子枪：Schottky场发射电子枪，最大束流200nA 物镜光阑：物镜光栏能自加热自清洁；无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑。光阑采取马达驱动 二次电子和背散射电子成像系统：自动调节和手动调节亮度、对比度 2. 样品台：五轴马达驱动 样品台移动范围：X/Y≥110mm；Z≥65mm；样品台倾 斜角度：T≥-15～+75°；R=360°连续旋转。样品室尺寸：左右>379mm 3. 分析工作距离：5 mm 4. 数字图像记录系统 图像处理：最大61 44 x 4096像素； 图像显示：单幅图像显示或4帧图像同时显示 图像记录 : TIFF, BMP或JPEG; 图像漂移补偿DCFI. 5. 配置Elec trostatic Beam Blanker和Keithley Picomete r (皮安计) 6. 配置NPGS（纳米图形生成系统）9.1，能和NPGS无缝链接完成电子束曝光 7. 配置UHV腔体，有2个以上可扩展窗口，以备以后系统功 能扩展，比如做EDS和FIB扩展用 功能及应用领域： 1. 高精度电子束曝光（主要功能）; 2. 电子束扫描显微镜成像功能; 3. 2018年配置X射线能量色散能谱: 元素定量分析和二维平面元素分析. 仪器联系人： 程满 联系人电话： 0571-88982793 邮政编码： 310058 电子邮件： chengm@zju.edu.cn 参考收费标准： 校内600元/小时；校外1200元/小时