PECVD镀膜机
规格型号：
MESC MULTIPLEN CND
所属单位：
浙江大学
生产厂商：
英国STS
技术指标：
淀积速率：>150nm/min(SiO2)；>100nm/min(SiN)；均匀性：<±5%
功能及应用领域：
可沉积厚达十几个微米的SiO2；淀积低应力SiN和SiON等介质膜
联系人电话：
057188981125
参考收费标准：
按学校有关标准