高分辨SEM电子束曝光系统 |
规格型号: | 高分辨电子显微镜(1kV, 1.4nm分辨);纳米图形生成器 | 所属单位: | 浙江大学 | 生产厂商: | FEI香港有限公司 | 技术指标: | 1. 电子光学系统 ★分辨率:二次电子(SE)像 ≤ 1.0 nm @ 15k V;1.4 nm @ 1kV; 加速电压: 0.2kV-30KV。放大倍数误差 :≤3 % ★电子枪:Schottky场发射电子枪,最大束流200nA ★ 物镜光阑:物镜光栏能自加热自清洁;无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑。光阑采取马达驱动 二次电子和背散射电子成像系统:自动调节和手动调节亮度、对比度 2. 样品台:五轴马达驱动 ★样品台移动范围:X/Y≥110mm;Z≥65mm;样品台倾 斜角度:T≥-15~+75°;R=360°连续旋转。样品室尺寸:左右>379mm 3. 分析工作距离:5 mm 4. 数字图像记录系统 图像处理:最大61 44 x 4096像素; 图像显示:单幅图像显示或4帧图像同时显示 图像记录 : TIFF, BMP或JPEG; 图像漂移补偿DCFI. 5. 配置Elec trostatic Beam Blanker和Keithley Picomete r (皮安计) 6. 配置NPGS(纳米图形生成系统)9.1,能和NPGS无缝链接完成电子束曝光 7. 配置UHV腔体,有2个以上可扩展窗口,以备以后系统功 能扩展,比如做EDS和FIB扩展用 | 功能及应用领域: | 1. 高精度电子束曝光(主要功能); 2. 电子束扫描显微镜成像功能; 3. 2018年配置X射线能量色散能谱: 元素定量分析和二维平面元素分析. | 联系人电话: | 057188981125 | 参考收费标准: | 校内600元/小时;校外1200元/小时 |
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