磁控溅射台
规格型号：
SP-2
所属单位：
中国科学技术大学
生产厂商：
中国科学院微电子中心
技术指标：
制膜厚度 < 800 nm 均匀性误差 ? ? 5% (Φ4?内) 该设备可同时溅射两种金属材料，可形成多层复合膜。
功能及应用领域：
薄膜可用于微机电系统器件的电极层、功能层等。
联系人电话：
0551-63601478
开放机时安排：
工作日
参考收费标准：
900元/样品