单室磁控溅射系统 分类编码： 120499 英文名称： 无 规格型号： JGP-450 分　　类： 工艺实验设备 所属单位： 材料科学与工程学院 仪器原值： 33.25(万元) 启用日期： 2015/12/20 生产厂商： 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 产地国别： 中国 技术指标： 真空室尺寸：  视窗不锈钢真空室，Ф200 x200mm  真空系统：  配置涡轮分子泵、机械泵（带防返油过滤器）极限压力： ≤1.0 x 10-5Pa  恢复真空时间：  恢复工作背景真空6×10-4Pa：35分钟左右（充干燥氩气） 磁控靶组件：  配置三个直径2英寸溅射靶枪，带独立挡板，共焦溅射，可以溅射小于等于4英寸的工件；有一个靶枪为磁场增强型，可以溅射厚度不小于3mm的Ni靶材；直流电源和射频电源可以自动切换到两个靶枪实现直流和射频溅射；4英寸工件溅射均匀性优于±5%； 溅射重复性优于±3% 样品尺寸：   ≤4 inches (约100mm)  运动方式：  0~20RPM 气路系统：  配置两路进气，采用知名品牌流量计控制（最大流量50sccm）  计算机控制系统：  触摸屏控制系统，可以在触摸屏上实现所有设备操作。 功能及应用领域： 在基体表面形成镀层 仪器联系人： 牛棱渊 联系人电话： 15867165046 邮政编码： 310018 电子邮件： niulengyuan@163.com 参考收费标准： 无