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单室磁控溅射系统 |
分类编码: | 120499 | 英文名称: | 无 | 规格型号: | JGP-450 | 分 类: | 工艺实验设备 | 所属单位: | 材料科学与工程学院 | 仪器原值: | 33.25(万元) | 启用日期: | 2015/12/20 | 生产厂商: | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 产地国别: | 中国 | 技术指标: | 真空室尺寸: 视窗不锈钢真空室,Ф200 x200mm 真空系统: 配置涡轮分子泵、机械泵(带防返油过滤器)极限压力: ≤1.0 x 10-5Pa 恢复真空时间: 恢复工作背景真空6×10-4Pa:35分钟左右(充干燥氩气) 磁控靶组件: 配置三个直径2英寸溅射靶枪,带独立挡板,共焦溅射,可以溅射小于等于4英寸的工件;有一个靶枪为磁场增强型,可以溅射厚度不小于3mm的Ni靶材;直流电源和射频电源可以自动切换到两个靶枪实现直流和射频溅射;4英寸工件溅射均匀性优于±5%; 溅射重复性优于±3% 样品尺寸: ≤4 inches (约100mm) 运动方式: 0~20RPM 气路系统: 配置两路进气,采用知名品牌流量计控制(最大流量50sccm) 计算机控制系统: 触摸屏控制系统,可以在触摸屏上实现所有设备操作。 | 功能及应用领域: | 在基体表面形成镀层 | 仪器联系人: | 牛棱渊 | 联系人电话: | 15867165046 | 邮政编码: | 310018 | 电子邮件: | niulengyuan@163.com | 参考收费标准: | 无 |
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