电子束曝光系统 分类编码： 120302 英文名称： Electron beam exposure 规格型号： ELPHY Quantum 分　　类： 工艺实验设备 所属单位： 现代光学仪器国家重点实验室 仪器原值： 247.00(万元) 启用日期： 2015/5/11 生产厂商： Raith 产地国别： 德国 安放地址： 浙江大学玉泉校区教三129 技术指标： PCI板嵌入系统，2.5 MHz像素到像素频率； 2 *16 bit DAC，10 bit、0.5微秒AD通道用于图像获取； TTL驱动电子束闸控制。 功能及应用领域： 基于扫描电镜安装的电子束曝光系统，利用电子束对传统抗蚀剂的曝光作用，加工出图形分辨率高、线条边缘陡直的微纳尺寸图形；它由硬件和软件组成。PC机通过图形发生器和数模转换电路驱动扫描电镜的扫描线圈，使电子束偏转并控制电子束闸的通断，从而实现纳米图形的直接刻写。 仪器联系人： 李强 联系人电话： 0571-87953159 邮政编码： 310027 电子邮件： qiangli@zju.edu.cn 开放机时安排： 周一上午 参考收费标准： 校内：320元/时或按照分析测试中心标准;校外：700元/时或按照分析测试中心标准（收费管理小组第七十八次会议）