去胶机 英文名称： MicroWave Plasma etching 规格型号： IoN Wave10 所属单位： 江苏物联网研究发展中心 仪器原值： 57.04(万元) 启用日期： 2012/11/1 生产厂商： PVA TePla 产地国别： USA.美国 安放地址： 中国,江苏省,无锡市,惠山区 技术指标： 全自动操作，可用于6inch或8inch晶圆的去胶。 片内去胶均一性优于±10%；片间去胶重复性优于±5%。 功率600W的2.45GHz发生器。 Windows中文操作系统，图形化操作界面。 可配备多路MFC。 功能及应用领域： PVA TePla IoN Wave 10利用微波等离子体清除晶圆表面的光刻胶或用于MEMS结构的释放。 仪器联系人： 吴祺昶 联系人电话： 025-85485877