磁控溅射系统 英文名称： Magnetron Sputtering Equipment 规格型号： JGP-450 所属单位： 江苏理工学院 仪器原值： 55.00(万元) 启用日期： 2014/10/11 生产厂商： JGP 产地国别： CHN.中国 安放地址： 中国,江苏省,常州市,钟楼区 技术指标： 调试过程中，直溅设备抽真空实验过程顺利，经过12小时后，溅射室能达到10-5 Pa。将直溅设备换成多靶共溅射设备后再换回直溅设备进行抽真空时，不能在指定时间内达到5.0×10-4Pa，停泵关机12小时真空度不能达到≤1Pa，故将直溅设备公自转台组件拆卸重新安装，再次调试时，60分钟真空度达到5.0×10-4Pa。 功能及应用领域： （1）溅射真空室和工作气路组件：暴漏大气后抽真空，提供高真空实验条件；（2）基片加热公自转台组件：实现多靶共溅；（3）单基片加热台组件：实现6个样品的直溅；（4）电控单元：提供射频电源、直流电源，检测真空度、温度、气体流量，控制基片挡板、靶材挡板等 仪器联系人： 吴祺昶 联系人电话： 025-85485877