化学气相沉积sio2 联系人： 时尧成 电话： 88206516转113 邮件： yaocheng@zju.edu.cn 开放时间： 学校正常上班时间 收费标准： 校外600元/小时 校内300元/小时 服务描述： 可沉积厚达十几个微米的SiO2； 淀积低应力SiN和SiON等介质膜； 淀积速率：>150nm/min(SiO2)；>100nm/min(SiN)； 厚度控制：从几十nm到6um都可精确控制。 均匀性好：<±3％；重复性好：<±3％；应力小：<300MPa；表面平整度、致密性好； 上下电极加热：上电极250℃，下电极300℃，可以减小侧壁和上电极沉积物的脱落。