等离子增强化学气相沉积PECVD（无机） 分类编码： 120302 英文名称： PECVD （non-contaminated substrate) 规格型号： PD-220NL 所属单位： 浙江省3D微纳加工和表征研究重点实验室 仪器原值： 250.00(万元) 启用日期： 2018/8/23 生产厂商： SAMCO Inc. 产地国别： 日本 服务领域： 材料,生物医学,电子与测量 技术指标： 1) 配置5%SiH4/95%N2，N2O，NH3，N2，CF4，O2等6路工艺气体， 2) 干式等离子体清洗免开腔维护； 3）最大300W的13.56MHz射频电源； 4）反应压力从50Pa～150Pa均可均匀镀膜； 4）衬底温度从100度到400度可调，片内温度均匀性优于+/-5度； 5）氮化硅和氧化硅薄膜片内成膜均匀性优于3%，片间成膜均匀性优于5%； -->样品要求： 样品尺寸从8英寸（200mm直径）圆片到小尺寸不规则样品，厚度须小于1mm；接受衬底材质如硅片，化合物半导体，玻璃，石英片等无金属污染的材质；已经沉积过金属的衬底，带光刻胶的衬底，金属衬底等不可在此机台使用；衬底需先进行清洗，去除表面颗粒和油污等方可送入反应腔镀膜，不可使用有挥发性或者未干燥样品；特殊样品请咨询设备管理员. 功能及应用领域： 可用于沉积氧化硅，氮化硅，氮氧化硅和掺氮非晶硅等薄膜材料； 可提供不同折射率，光学带隙，吸收系数和薄膜应力的工艺参数组合；折射率从1.45~3.00连续可调；禁带宽度和吸收边从在非晶硅到氧化硅之间连续可调；薄膜应力从压应力到张应力可调； 仪器联系人： 李西军 联系人电话： 0571-88119591 邮政编码： 310024 电子邮件： lixijun@westlake.edu.cn 参考收费标准： 校内600元/小时； 校外1200元/小时