超高真空多靶磁控溅射系统 分类编码： 120399 英文名称： Magnetron Sputtering System 规格型号： JSP-8000 分　　类： 工艺实验设备 所属单位： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 仪器原值： 192.37(万元) 启用日期： 2011/10/13 生产厂商： ULVAC Technologies 产地国别： 日本 技术指标： 本底真空(Ultimate Pressure): < 2.66×10-6Pa，基片尺寸(Substrate Size): F2~8 inch 功能及应用领域： 纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、介质膜、铁磁膜和磁性薄膜等的研发 仪器联系人： 高俊华 联系人电话： 0574-86688153 邮政编码： 315201 电子邮件： gaojunhua@nimte.ac.cn 参考收费标准： 无