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PECVD镀膜机
分类编码:120302
英文名称:
规格型号:MESC MULTIPLEN CND
分  类:工艺实验设备
所属单位:浙江大学光电科学与工程学院
仪器原值:223.00(万元)
启用日期:2006/12/21
生产厂商:英国STS
产地国别:美国
技术指标:淀积速率:>150nm/min(SiO2);>100nm/min(SiN);均匀性:<±5%
功能及应用领域:可沉积厚达十几个微米的SiO2;淀积低应力SiN和SiON等介质膜
仪器联系人:陈老师
联系人电话:0571-88206525
邮政编码:310000
电子邮件:sailing@zju.edu.cn
参考收费标准:按学校有关标准