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| PECVD镀膜机 |
| 分类编码: | 120302 | | 英文名称: | 无 | | 规格型号: | MESC MULTIPLEN CND | | 分 类: | 工艺实验设备 | | 所属单位: | 浙江大学光电科学与工程学院 | | 仪器原值: | 223.00(万元) | | 启用日期: | 2006/12/21 | | 生产厂商: | 英国STS | | 产地国别: | 美国 | | 技术指标: | 淀积速率:>150nm/min(SiO2);>100nm/min(SiN);均匀性:<±5% | | 功能及应用领域: | 可沉积厚达十几个微米的SiO2;淀积低应力SiN和SiON等介质膜 | | 仪器联系人: | 陈老师 | | 联系人电话: | 0571-88206525 | | 邮政编码: | 310000 | | 电子邮件: | sailing@zju.edu.cn | | 参考收费标准: | 按学校有关标准 |
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