磁控溅射台 分类编码： 030603 英文名称： 无 规格型号： MSP-3200 分　　类： 计量仪器 所属单位： 中国计量大学 仪器原值： 53.32(万元) 启用日期： 2010/8/10 生产厂商： 北京创世威纳科技有限公司 产地国别： 中国 技术指标： 真空系统 分子泵系统真空室数量 2个（溅射室、Load－lock室），样片自动送取机械手形式 折叠机械手、直线机械手溅射靶规格 Φ50 mm，Φ60 mm，Φ75 mm，Φ80 mm，Φ100mm 溅射靶数量 2－4个磁控靶安装形式 MSP－3200：上置倾斜安装，自上而下溅射 MSP－3200T：下置倾斜安装，自下而上溅射膜层结构 单层膜、多层膜、共溅射生长混合膜电源标准配置 直流、射频电源选配 直流脉冲、中频；直流偏压、射频偏压样品数量及尺寸 单片、Φ2－6英寸样品台旋转 1－25rpm、转速连续可调样品加热 标准加热器，室温－400度，控温精度±1% 溅射不均匀性 ±3%～±5% 溅射速率 与材料和工艺相关，可向厂家询问磁性薄膜制备 可选配高温加热器 可选配膜厚监控系统 可选配氧化溅射系统 可选配氧分压闭环控制系统 可选配非标准磁路模块 可选配 Load－lock室射频清洗模块 可选配关键部件 可选配进口、国产人机界面 Windows风格界面、触摸屏操作操作方式 全自动方式、半自动方式 功能及应用领域： 设备可在片状或类似形状样品表面镀制各种金属、非金属、化合物等薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO2、Al2O3、TaN、ITO、AZO等。 仪器联系人： 黄艳岩 联系人电话： 87676285 邮政编码： 310018 电子邮件： hyy9791@cjlu.edu.cn 参考收费标准： 400元/次