超高真空磁控溅射设备 英文名称： UHVTritargetMagnetronCoSputteringSystem 规格型号： MS500B型 所属单位： 常熟理工学院 仪器原值： 51.00(万元) 启用日期： 2012/12/11 生产厂商： 沈阳科友真空技术有限公司 产地国别： CHN.中国 安放地址： 中国,江苏省,苏州市,常熟市 技术指标： 1、系统真空指标： 磁控溅射室：经48小时连续烘烤（150℃），优于6.0×10-6Pa； 样品室：经12小时连续烘烤（120℃），优于6.0×10-5Pa； 2、抽气速率： 磁控溅射室：系统充入干燥氮气后暴露大气5分钟内开始抽气，在≤30分钟内，其真空度≤8.0×10-4Pa； 样品室：系统充入干燥氮气后暴露大气5分钟内开始抽气，在≤30分钟内，其真空度≤7.0×10-4Pa； 3、系统检漏漏率：优于1.3×10-8Pa?L/S。 4、真空获得及测量 溅射室：FB1200涡轮分子泵+2X 功能及应用领域： 该设备采用磁控溅射方式，用于开发纳米级的单层及多层功能膜—各种金属膜、半导体膜、介质膜及各类光学薄膜、磁记录薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜等。 仪器联系人： 吴祺昶 联系人电话： 025-85485877