深反应刻蚀机 规格型号： Plasmalab System100 ICP180 所属单位： 浙江大学 生产厂商： 英国牛津仪器等离子技术公司 技术指标： ICP 源：3000W 13.56MHz，RF 源：300W 13.56MHz，4"、6"基片，4路工艺气体（可扩展至8路），自动进样室，工艺室极限真空<10E-7乇，Bosch 刻硅工艺：均匀度<±5%；速率>3um/分，深宽比〉30:1 功能及应用领域： Si的干法深刻蚀；Poly-Si,SiNx,SiO2,W,WSi,Ge，有机物的干法刻蚀；材料表面氟化。 联系人电话： 057188981125 参考收费标准： 按学校有关标准