电子束蒸发镀膜机 |
英文名称: | Electron beam evaporator | 规格型号: | KJLC PVD 75 | 所属单位: | 苏州大学 | 仪器原值: | 115.09(万元) | 启用日期: | 2011/3/26 | 生产厂商: | KURT J.LESKER COMPANY | 产地国别: | USA.美国 | 安放地址: | 中国,江苏省,苏州市,吴中区 | 技术指标: | 1.基片尺寸≤Ф12英寸 2.电子枪功率:5-10KW 3.极限真空度:5×10-5Pa 4.真空抽速:3×10-4Pa/20min 5.衬底温度:350℃ 6.温度均匀性:±10℃ 7.样平台转速:≤20r/min 8.坩埚数量:4 9.镀膜均匀性:±5%(Al) 10.控制系统:PC+PLC全自动控制 | 功能及应用领域: | 电子蒸发镀膜机是一种普适镀膜机,用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀各种硬质膜、金属膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。 | 仪器联系人: | 吴祺昶 | 联系人电话: | 025-85485877 |
|