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| 双腔型等离子增强原子层沉积系统 |
| 分类编码： | 030603 | | 英文名称： | Double-waferPlasma-EnhancedAtomic Layer Deposition System | | 规格型号： | PEALD-D100R | | 分 类： | 计量仪器 | | 所属单位： | 宁波工程学院 | | 仪器原值： | 73.70(万元) | | 启用日期： | 2017/12/20 | | 生产厂商： | 嘉兴科民电子设备技术有限公司 | | 产地国别： | 中国 | | 技术指标： | 前驱体管路温度：室温～200℃，控制精度±0.1℃；源瓶加热温度 室温～200℃，控制精度±0.1℃；沉积非均匀性＜±1% | | 功能及应用领域： | 进行部分氧化物、个别氮化物、少量单质的原子层沉积 | | 仪器联系人： | 侯慧林 | | 联系人电话： | 无 | | 邮政编码： | 315211 | | 电子邮件： | houhuilin86@163.com | | 参考收费标准： | 面议 |
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