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氧等离子去胶机 |
分类编码: | 120302 | 英文名称: | Plasma Cleaner | 规格型号: | PC-300 | 所属单位: | 浙江省3D微纳加工和表征研究重点实验室 | 仪器原值: | 45.65(万元) | 启用日期: | 2018/8/23 | 生产厂商: | SAMCO | 产地国别: | 日本 | 服务领域: | 材料,生物医学,电子与测量 | 技术指标: | 清洗模式:RIE模式和PE模式可切换; 衬底最大尺寸:直径或者边长200mm; 射频功率:0-300W,自动匹配,反射功率<5%(最大功率); 1路MFC控制的O2气体,最大流量50sccm; 胶速度和均匀性:RIE模式时(1层电极板),去胶速度>100nm/min,均匀性<±15%; 工艺可由菜单控制也可由手动控制,可调节的工艺参数包括:气体流量,等离子功率; 最多可编辑保存菜单:100个; | 功能及应用领域: | 该设备其工作原理是将样品置于真空反应系统中,通入少量氧气,射频电源(13.56MHz)通过平行板电容放电的方式将O2电离,电离后的阳离子和自由基与样品表面的有机物,如光刻胶、有机残留物等发生反应,并将其去除。 | 仪器联系人: | 李西军 | 联系人电话: | 0571-88119591 | 邮政编码: | 310024 | 电子邮件: | lixijun@westlake.edu.cn | 参考收费标准: | 校内100元/小时; 校外200元/小时 |
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