双面对准光刻机 分类编码： 120302 英文名称： Mask Aligner 规格型号： Suss MA6GEN4 所属单位： 浙江省3D微纳加工和表征研究重点实验室 仪器原值： 320.00(万元) 启用日期： 2018/8/23 生产厂商： Suss MicroTec Lithography 产地国别： 德国 服务领域： 材料,生物医学,电子与测量 技术指标： 1. 光源：LED三光源，波长分别为365nm、405nm、436nm 2. 光强均匀性：±2.0% （6英寸衬底） 3. 曝光模式：接近式、软接触、硬接触、真空接触 4. 高分辨率: 0.8μm（真空接触） 5. 对准方式：正面对准、背面对准 6. 正面套准精度：+/-0.5μm 7. 背面套准精度：+/-1.0μm 8. 晶圆尺寸：2英寸、4英寸、6英寸、碎片（5mm ~20mm） 功能及应用领域： 1. 支持365nm、405nm、435nm波长，可曝光加工亚微米（＞0.8μm）图形结构 2. 具有恒量模式、自动控制曝光时间、自动对准等功能 3. 配置消衍射及微镜式光学系统，可在同一设备实现“高分辨率”和“大景深”两种模式曝光，且两种模式可随时切换 4. 具有自动图像采集及存储功能，用于光刻的正面及背面图形的精确对准 仪器联系人： 李西军 联系人电话： 0571-88119591 邮政编码： 310024 电子邮件： lixijun@westlake.edu.cn 参考收费标准： 校内600元/小时； 校外1200元/小时