等离子增强管式气相沉积设备 分类编码： 990000 英文名称： Chemical Vapor Deposition 规格型号： SACVD-200 所属单位： 浙江省有机硅材料技术重点实验室 仪器原值： 30.00(万元) 启用日期： 2008/12/19 生产厂商： 沈阳腾鳌真空设备有限公司 产地国别： 中国 技术指标： （1）温度范围：室温-900 ˚C （2）样品室气氛：氮气、空气 （3）升温速率：5-10 K/min（4）真空度10-100 Pa 功能及应用领域： 在真空条件下，通入反应气体，沉积薄膜材料 仪器联系人： 张飞豹 联系人电话： 0571-28868195 邮政编码： 311121 电子邮件： feibaozhang@hznu.edu.cn 参考收费标准： 面议