光刻键合对准系统 分类编码： 120304 英文名称： Lithography Bonding Alignment System 规格型号： H94-30型 分　　类： 工艺实验设备 所属单位： 浙江大学 仪器原值： 31.50(万元) 启用日期： 2017/12/4 生产厂商： 四川南光真空科技有限公司 产地国别： 中国 技术指标： 曝光面积：110×110mm；曝光照度不均匀性：≤3%；曝光强度：≥40mw/cm2可调；显微系统： 1）正面对准采用双视场CCD立式显微镜，总放大倍数45X~300X（物镜放 大倍数1.1X～7.5X连续变倍），双物镜可调距离11mm～100mm。扫描范围:X±40mm ，Y±35mm； 2）反面对准采用双视场CCD卧式显微镜：总放大倍数60X、120X两种（物 镜放大倍数2X、4X两种）,双物镜可调距离25mm～70mm； 3）两种显微镜共用一套计算机图像处理系统。 功能及应用领域： "可以用于集成电路 半导体器件 声表面波器件的制备 " 仪器联系人： 宋吉舟 联系人电话： 18757118983 邮政编码： 310027 电子邮件： jzsong@zju.edu.cn 参考收费标准： [浙大校办（2000）18号]