光刻系统 英文名称： Lithography system 规格型号： MBJ4 所属单位： 苏州科技大学 仪器原值： 89.36(万元) 启用日期： 2015/10/1 生产厂商： 德国SUSS MicroTec(江苏舜天国际集团机械进出口股份有限公司) 产地国别： DEU.德国 安放地址： 中国,江苏省,苏州市,虎丘区 技术指标： 正面对准，能够实现软接触、硬接触和接近式三种曝光模式。接近曝光间距设定范围1-900微米。可兼容5英寸的光刻掩膜，4英寸样品及f5-10mm样品。正面套准精度优于0.8um。采用分离视场显微镜对准，分辨率优于0.8um，观察方式为目镜及显示器。Osram紫外光源，光强35mW/cm2（365nm），曝光光强均匀性：±3%。光学显微镜采用透射及反射光源，可实现明场观察、暗场观察以及偏光功能。 功能及应用领域： 光刻系统的主要作用是通过紫外光刻、显影及刻蚀等一系列步骤制备出具有特定图形、结构的固态器件，是制备和研究固态微器件的必备工具。 仪器联系人： 吴祺昶 联系人电话： 025-85485877