ALD原子层沉积系统 分类编码： 120399 英文名称： 无 规格型号： ALD150LX 分　　类： 工艺实验设备 所属单位： 浙江大学信息与电子工程学院 仪器原值： 132.00(万元) 启用日期： 2012/5/14 生产厂商： 美国Lesker公司 产地国别： 美国 技术指标： 热和等离子两种生长方式；6 基片；均匀度<±2%；基片加热温度最高300℃；两个不带加热功能的生长源，两个带加热功能的生长源；可自动进样。 功能及应用领域： 按单原子层进行超薄膜的气相沉积 仪器联系人： 王妹芳 联系人电话： 18989499499 邮政编码： 310000 电子邮件： sic109@zju.edu.cn 参考收费标准： 按学校有关标准