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离子束刻蚀系统 |
分类编码: | 120302 | 英文名称: | 无 | 规格型号: | AD-IBE150 | 所属单位: | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 仪器原值: | 37.17(万元) | 启用日期: | 2019/11/25 | 生产厂商: | 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司 | 产地国别: | 中国 | 技术指标: | 极限真空<10-5Pa,工作真空<5×10-4Pa,工件台尺寸>150mm,有效离子束直径>100mm,刻蚀非均匀度<5%(100mm直径内),刻蚀气体Ar,工件台最高自转速度>5rpm,倾角0~20度,同时后期可扩展反应离子束刻蚀功能,计算机+PLC控制 | 功能及应用领域: | 需要适用于金属、合金、非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、聚合物、陶瓷等刻蚀,如Au、Pt、Ti、Cr、Al等常见金属,ZnO2、SiO2、 Al2O3、BaTiO3等氧化 | 仪器联系人: | 高双 | 联系人电话: | 13911156647 | 邮政编码: | 315201 | 电子邮件: | gaoshuang@nimte.ac.cn | 参考收费标准: | 无 |
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