电子束曝光机 分类编码： 120302 英文名称： Electron Beam Lithography 规格型号： Raith 150 TWO 所属单位： 浙江省3D微纳加工和表征研究重点实验室 仪器原值： 850.00(万元) 启用日期： 2018/8/23 生产厂商： Raith 产地国别： 德国 服务领域： 材料,生物医学,电子与测量 技术指标： 1. 加速电压：100V ~ 30kV 2.最小束斑：1.6nm（20kV）, 4nm（1kV） 3.最小线宽：≤ 8nm 4.拼接精度：≤ 35nm 5.写场尺寸：0.5 um ~2mm 6.放大倍率：20 ~ 1,000,000倍 7.样品台工作范围：150mm × 150mm ×20mm 功能及应用领域： 1. 采用肖特基热场发射电子束源，可在各种衬底材料表面直写各种图形，制作最小线宽为8nm的图形结构； 2. 除电子束曝光功能外，具有ET detector和InLens detector两个二次电子探测器，可实现高分辨率的成像和精确度量； 3.压电样品台XY方向具有1nm的移动精度； 4. FBMS固定束移动工作台模式，可实现长路径无拼接误差的曝光，适用于波导、波带片等结构。 仪器联系人： 李西军 联系人电话： 0571-88119591 邮政编码： 310024 电子邮件： lixijun@westlake.edu.cn 参考收费标准： 校内1000元/小时； 校外2000元/小时