紫外光刻仪 分类编码： 011299 英文名称： HIGH RESOLUTION MASK ALIGNER AND EXPOSURE SYSTEM 规格型号： XXX 分　　类： 分析仪器 所属单位： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 仪器原值： 89.28(万元) 启用日期： 2008/8/31 生产厂商： ABM公司 产地国别： 美国 技术指标： 光源：350W NUV 汞灯，365nm，400nm，436nm 功能及应用领域： 用于将涂有光刻胶的晶片与掩膜的对准，然后曝光，将掩膜的图形转移到晶片的光刻胶上，用于纳米器件的微加工。 仪器联系人： 梁凌燕 联系人电话： 0574-86688153 邮政编码： 315201 电子邮件： lly@nimte.ac.cn 参考收费标准： 面议