真空多弧离子镀及离子注入设备 英文名称： Vacuum multiarc ion plating and ion implantation equipment 规格型号： Technol(非标) 所属单位： 南京工程学院 仪器原值： 108.05(万元) 启用日期： 2012/1/12 生产厂商： 北京泰科诺科技有限公司 产地国别： CHN.中国 安放地址： 中国,江苏省,南京市,江宁区 技术指标： 考夫曼离子源：栅网口径： 6cm，离子能量：100-600eV，离子束流：100mA，不均匀性：±15%，均匀区：ф170mm，距离：300m，工作气体：氩或氧。多弧电源：电源电压： AC 220V±15% ,50/60 HZ，额定输入功率：7  KVA，额定输入电流：32A，额定输出电压：20-40V（可调），开关频率：100KHZ，输出电流： 20~120A（连续可调）。金属离子源：单电荷离子能量范围为20~80Kev，平均离子束流：≧10mA ，引出电压：20-80kV，束斑直径：10cm，金属源尺 功能及应用领域： 材料表面清洗与活化，材料表面离子注入改性及多种功能薄膜的制备。 仪器联系人： 吴祺昶 联系人电话： 025-85485877