PECVD 分类编码： 120404 英文名称： Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 规格型号： 定制 分　　类： 工艺实验设备 所属单位： 温州大学 仪器原值： 39.60(万元) 启用日期： 2013/1/9 生产厂商： 沈阳慧宇真空技术有限公司 产地国别： 中国 技术指标： 1）、极限真空∶ 10-5Pa 2）、真空室尺寸Φ内300X300 3）、最大样品尺寸Φ30 4)、最高加热温度 1000 ℃ 5)、射频功率 500 W 功能及应用领域： 在衬底上沉积半导体、金属、绝缘体等薄膜；制备石墨烯等 仪器联系人： 蔡晓庆 联系人电话： 0577-86689179 邮政编码： 325006 电子邮件： 46697745@qq.com 参考收费标准： 详见对外收费标准