磁控溅射沉积系统 英文名称： Magnetron sputtering deposition system 规格型号： JGP-560B 所属单位： 常州工学院 仪器原值： 54.50(万元) 生产厂商： 沈阳科学仪器研制中心有限公司 产地国别： CHN.中国 安放地址： 中国,江苏省,常州市,新北区 技术指标： 溅射室极限真空度：≤8.0x10-6 Pa； 进样室极限真空度：≤6.67x10-4 Pa； 系统有5支磁控靶：4支2英寸，1支3英寸； 功能及应用领域：    能够溅射各种金属、半导体、陶瓷、铁磁等薄膜，只要提供各种靶材，理论上就能溅射各种金属、半导体以及介电薄膜，制备多种光电子器件，同时满足实验教学、科研创新工作的多种功能要求。 仪器联系人： 吴祺昶 联系人电话： 025-85485877