超高真空磁控溅射设备 英文名称： N 规格型号： JGP560CVI 所属单位： 江苏大学 仪器原值： 43.00(万元) 启用日期： 2002/11/1 生产厂商： 沈阳中科仪技术发展有限公司 产地国别： CHN.中国 安放地址： 中国,江苏省,镇江市,京口区 技术指标： , 极限真空度： 主溅射室6.6×10-5Pa，进样室5×10-4Pa；工作真空度可调靶：磁控靶/射频靶，水冷，射频靶2×φ50，直流靶1×φ50 衬底： 多片样品，可水冷，可加热结构： 主溅射室φ350×280，夹壁水冷 , 功能及应用领域： ,金属、非金属材料薄膜制备, 仪器联系人： 吴祺昶 联系人电话： 025-85485877