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等离子体刻蚀系统 |
分类编码: | 120399 | 英文名称: | Plasma Etching System | 规格型号: | ICP-150A | 所属单位: | 浙江大学 | 仪器原值: | 65.00(万元) | 启用日期: | 2018/10/17 | 生产厂商: | 北京泰龙电子技术有限公司 | 产地国别: | 中国 | 技术指标: | 自动化传片机构:He背冷,水冷,控温腔室;标配6路进气;本底真空优于0.005Pa;射频电源功率1500W,频率13.56MHz;偏压电源功率500W,频率13.56MHz;6寸样品台<=+-5%的刻蚀均匀性。 | 功能及应用领域: | 刻蚀石英/蓝宝石/Si/SiNX/SiO2/Al/GaAs/GaN/W/WSi/Mo/Ta/TaSi等 | 仪器联系人: | 宋吉舟 | 联系人电话: | 18757118983 | 邮政编码: | 310027 | 电子邮件: | jzsong@zju.edu.cn | 参考收费标准: | 校内:1. InP: ≤1um 300元, 每增加1um加100元; 2. GaAs: ≤1um 400元, 每增加1um加100元以上为每单次刻蚀收费标准,多片按次数收费,多次刻蚀时样品成分不同需收取腔体清洁费用,每次清洁100元。其他成分样品价格按情况协商 校外:1. InP: ≤1um 400元, 每增加1um加150元; 2. GaAs:≤1um 500元, 每增加1um加150元以上为每单次刻蚀收费标准,多片按次数收费,多次刻蚀时每次清洁150元。 |
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